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产品详情
简单介绍:
日本funatech氧化装置
日本funatech氧化装置
详情介绍:
产品特点:
在半导体工业中使用的水的纯度越来越高,值请求(TOC)的有机物质的浓度的超纯水,也变得更加严格。它是紫外线氧化设备所产生的真空紫外线的照射(185nm的)具有非常强的·OH自由基氧化,是使用有机物质的氧化分解的氧化能力。FOV系列产品是一种有效地从高输出低压汞灯产生的真空紫外光照射,氧化分解有机物在水中的设备。这是一个很好的地方,以减少TOC ppb的顺序。
在半导体工业中使用的水的纯度越来越高,值请求(TOC)的有机物质的浓度的超纯水,也变得更加严格。它是紫外线氧化设备所产生的真空紫外线的照射(185nm的)具有非常强的·OH自由基氧化,是使用有机物质的氧化分解的氧化能力。FOV系列产品是一种有效地从高输出低压汞灯产生的真空紫外光照射,氧化分解有机物在水中的设备。这是一个很好的地方,以减少TOC ppb的顺序。